下午四点多的时候，倪暗楠急匆匆地来到赵烨的办公室。
“老板，经过我这些天的调查，自建晶圆厂，若是想实现大部分生产设备国产化，实在是困难重重！”
倪暗楠叹道，“80年代初，中科院半导体所研制成功JK-1型半自动接近式光刻机。随后，上海光学机械厂的研制的JKG-3型光刻机通过鉴定与设计定型。近日，中科院微电子研究所成功研制BG-101步进式光刻机，性能指标接近美国GCA公司4800DSW系统的水平，中科院上海光学精密机械研究所研制的扫描式投影光刻机通过鉴定。武汉无线电元件三厂则在光刻机的科研上已经在光刻机项目上有了20多年的技术积累。
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