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第一千一百五十八章 光刻机(3 / 5)

五”(1986—1990年)期间我国集成电路技术的“531”发展战略,即普及推广以742厂为基点的5微米技术,同时开发3微米技术,攻关1微米技术。

但实际上,一直到1993年的时候,国内才开发出 5英寸,三微米技术,而这比起日本,已经整整相差了15年以上。

“这套设备我要了。”段云走到一台光刻机前,对田中信一说道。

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